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鹼性溶液中的不銹鋼含水氧化物薄膜的形成與發展

无锡不锈钢市场 不銹鋼含水氧化物薄膜 2007-2-8 9:42:30

鹼性溶液中的不銹鋼含水氧化物薄膜的形成與發展

摘要:


藉著循環電位表,在標準1莫耳/單位立方公分,氫氧化鈉的含水氧化物薄膜在不銹鋼AISI型號302的不銹鋼上形成。對於氧化成長,最理想的成長速度是5mV/每秒,在1.7和0.5V(SCE)之間。由64Fe-36Ni和80Ni-20Cr兩種合金不銹鋼的電位資料將使用於解釋不銹鋼表面的氧化還原過程。這兩種含水氧化物在屬於Fe(OH)2/FeOOH和Ni(OH)2/NiOOH的SS302 上有最高的電位資料。藉著開路電位在0.1mol/單位立方公分的硫酸溶液下的穩定度測試。不回復電極將會立即得到-0.45的主動電位。在氫氧化鈉的溶液中只有一種循環是穩定的。當含水氧化物薄膜形成以致電荷貯存到電容量18mC/每平方公分(表示陽極Fe(OH)2/
FeOOH 的轉換電位),六天後開路電壓仍然是正的。

 

出處:-

 

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